ポストシリコン材料の実用化に向けた新技術

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2025-07-08

engineering

{'items': [{'key': 'a7jks', 'term': 'スパッタリング', 'description': {'blocks': [{'key': '6a4np', 'text': '薄膜形成方法の一つで、プラズマ化させた希ガス元素イオンを材料に衝突させ、はじき出された材料原子が基板上に付着することで薄膜が形成される。大面積に高速で製膜できるため量産性に優れている。', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}}, {'key': '100n9', 'term': 'スピントロニクス', 'description': {'blocks': [{'key': 'f12a5', 'text': '電子が持つ「電荷」の自由度に加えて量子的な性質である「スピン」の自由度も利用することで、従来のエレクトロニクスでは実現できなかった機能を有するデバイスの実現を目指す研究分野。', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}}, {'key': '13rp1', 'term': '磁気トンネル接合素子 ', 'description': {'blocks': [{'key': '2n0p0', 'text': '厚さ数ナノメートルの2つの磁石薄膜によって酸化物薄膜を挟み込んだ素子であり、酸化物が薄いためトンネル効果により伝導電子が酸化物を通り抜けることができる。この素子は2つの磁石のN, S極の方向に応じて抵抗が大きく変化するトンネル磁気抵抗効果を示し、MRAMや磁気センサに利用されている。', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}}, {'key': 'cso3u', 'term': 'X線光電子分光（XPS） ', 'description': {'blocks': [{'key': 'cv4c', 'text': '物質にX線を照射し、それにより放出される光電子を測定することで、物質表面の組成や化学状態（例えば酸化状態など）を調べる分析技術。元素ごとにX線の吸収エネルギーが異なることを利用して、複数の材料からなる多層膜であっても特定の元素の状態を同定することができる。', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}}]}

['isir']

['小山知弘']

近年の半導体デバイスは微細化が進むとともに構造が複雑化しており、酸化防止層の導入などにより作製中のダメージを未然に防ぐことが難しくなっています。それに対し本研究成果は、酸化により劣化してしまった磁石薄膜の性能を後から復活させる技術に繋がり、酸化に弱く加工が難しいポストシリコン材料の実用化を加速するものであると期待しています。今後は、触媒作用を活用した革新的なスピントロニクス材料の開発を行っていきたいと考えています。

https://rd.iai.osaka-u.ac.jp/image/photo_drwan_640.png

小山　知弘

准教授

産業科学研究所

https://rd.iai.osaka-u.ac.jp/ja/22ced35d39b19933.html