大型ダイヤモンド基板の産業利用に期待

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2020-11-10 00:00:00

engineering

{'items': [{'description': {'blocks': [{'key': '8ut04', 'text': '気体を構成するガス原子もしくは分子の一部が電離して陽イオンと電子に分かれて運動している状態であり、全体としては電気的に中性な状態のことを言う。プラズマ中には陽イオンと電子以外にも不対電子を持つ原子、分子や、励起状態にある原子、分子も含まれており、一般的にこれらの原子、分子の反応性は高い。プラズマで生成された反応種と基板の組み合わせによって基板材料の表面原子を除去するエッチングが生じたり、基板上に膜が形成されたりする。', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}, 'key': 'term1', 'term': 'プラズマ'}, {'description': {'blocks': [{'key': 'al6t6', 'text': '発熱する機器に取り付ける熱伝導率の高い材料を用いた放熱板。CPUやパワーデバイス等の半導体デバイスにおける電力消費により発生する熱を速やかに放熱し、過熱による損傷や性能低下を防止するために用いられる。', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}, 'key': 'term3', 'term': 'ヒートシンク'}, {'description': {'blocks': [{'key': '7dks1', 'text': '電気自動車や電車等のモーターや、直流と交流を変換するインバータ等において、電力を制御するために用いられる半導体素子。', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}, 'key': 'term4', 'term': 'パワーデバイス'}, {'description': {'blocks': [{'key': 'evip0', 'text': '材料を機械的に削る砥粒と加工物表面を軟質化させる薬液とを含むスラリーと呼ばれる研磨液を用いる研磨方法。Chemical Mechanical Polishing の略でCMPとも呼ばれる。', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}, 'key': 'term2', 'term': '化学機械研磨(CMP)法'}, {'description': {'blocks': [{'key': 'eep3t', 'text': 'マイクロ波プラズマCVD：', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}, {'key': 'a2vqt', 'text': '周波数が2.45GHzのマイクロ波電界によって発生させたプラズマ中に原料ガスを供給し、プラズマ中で分解、活性化された原子・分子を基板上に堆積させて成膜する方法。', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}, 'key': 'term5', 'term': 'マイクロ波CVD'}, {'description': {'blocks': [{'key': '9h3b1', 'text': '薄膜結晶成長技術のひとつで、基板となる結晶の上に結晶成長を行い、下地の基板の結晶面にそろえて配列する成長様式。基板と薄膜が同じ物質である場合をホモエピタキシャル、異なる物質である場合をヘテロエピタキシャルという。', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}, 'key': 'term6', 'term': 'エピタキシャル成長'}, {'description': {'blocks': [{'key': '49h87', 'text': '古来より宝石などのダイヤモンドに用いられてきた研磨方法。研磨盤として鋳鉄を、また砥粒としてオリーブオイルで溶いたダイヤモンド粉末を用いる。ペースト状ダイヤモンド砥粒が研磨初期に高温になったダイヤモンド試料によってスカイフ盤と呼ばれる鋳鉄製の定盤上に焼き付き、以後の研磨では固定砥粒として作用する。また、鉄とダイヤモンドとの化学反応を利用した仕上げ研磨も同時に行われていると思われ、粗研磨から仕上げまで行えるダイヤモンドに特有な方法である。欠点として研磨面の維持が困難で職人技が要求される。', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}, 'key': 'term7', 'term': 'スカイフ研磨'}, {'key': '2eakf', 'term': 'プラズマ援用研磨(Plasma Assisted Polishing)法', 'description': {'blocks': [{'key': '238jb', 'text': 'プラズマ照射による表面改質と軟質砥粒による改質層の除去を複合した超精密研磨法。硬脆材料の表面を軟質化することで研磨能率が増加するとともに、原子オーダで平滑な表面をダメージフリーに得ることができる。 ', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}}, {'description': {'blocks': [{'key': '2seq0', 'text': '走査型プローブ顕微鏡の一種で、Atomic Force Microscope, AFMとも呼ばれる。探針と試料表面の原子間に働く力を検出して画像化することにより、ナノメータからサブナノメータの分解能で試料表面の形状が得られる。', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}, 'key': 'term8', 'term': '原子間力顕微鏡'}, {'description': {'blocks': [{'key': 'ej4u0', 'text': 'ラマン散乱光のスペクトルのことで、物質固有のラマン散乱ピークのシフト量や半値幅を解析することで、試料表面における残留応力や結晶性を評価できる。', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}, 'key': 'term9', 'term': 'ラマンスペクトル'}, {'description': {'blocks': [{'key': 'd4vam', 'text': '粗さ測定器によって測定した表面形状において、平均線から測定曲線までの偏差の2乗を平均した値の平方根。表面の性状を評価する指標の一つである。', 'type': 'unstyled', 'depth': 0, 'inlineStyleRanges': [], 'entityRanges': [], 'data': {}}], 'entityMap': {}}, 'key': 'term10', 'term': '二乗平均平方根粗さ'}]}

['eng']

['山村和也', '劉念', '吉鷹直也']